電化學(xué)阻抗譜概述

電化學(xué)阻抗譜（EIS）是一個強大的技術(shù)，它使用一個小振幅交流電信號去探測電解池的阻抗特征。交流信號在大頻率范圍掃描以產(chǎn)生一個測試中電化學(xué)電解池的阻抗譜。EIS與直流電技術(shù)的區(qū)別在于它可以對發(fā)生在電化學(xué)電解池的電容性，電感性和擴散過程進行研究。EIS背后的理論比直流技術(shù)更加復(fù)雜，所以建議您在入門前先對基本原理有一個基礎(chǔ)的了解。EIS有深遠的應(yīng)用包括涂層，電池，燃料電池，光伏，傳感器和生物化學(xué)。這個指南將集中于EIS技術(shù)在涂覆鋁面板腐蝕性能分析方面的應(yīng)用。

先知道一些關(guān)于被調(diào)查的電化學(xué)系統(tǒng)的知識也是很有幫助的。有了對系統(tǒng)的基本了解，就可以知道電化學(xué)工作站是否能夠收集所需的信息且收集到的數(shù)據(jù)是否滿足精度要求。注意：這個指南講述的是初次電化學(xué)工作站組裝和軟件安裝后的部分。它假設(shè)授權(quán)碼已被正確輸入，而且儀器被校準了

電極和電解池安裝

EIS常運行在三電極模式。在此配置中有一個工作電極（您的材料樣品），對電極（常用石墨和鉑）和一個獨立的參比電極—飽和甘汞電極（SCE）和銀/氯化銀（Ag/AgCl）是常見的。更多電極設(shè)置可以在這里找見。

對于這個教程，包覆鋁板被用作工作電極，石墨棒被用作對電極，Gamry的SCE被用作參比電極。注意：為了與工作電極有一個電連接，裸金屬的一部分必須暴露出來。如圖1所示。

圖1三電極EIS實驗所用材料。為了與工作電極有一個電連接，裸金屬的一部分必須暴露出來。

現(xiàn)在電極可以被連接到電解池上了。在這個教程中，Gamry 的PTC1 Paint Cell因其較適合的電極幾何結(jié)構(gòu)被選用了。依賴于溶液體積和電極幾何，Gamry的 Paracell或Eurocell也能用。工作電極被連接到電解池平臺，并置于電解池之下。輔助和參比電極用橡膠塞固定著，蓋著池體。裝載著電極的電解池如圖2所示。

圖2 包覆鋁工作電極被夾在電解池平臺和電解池池體之間。SCE參比電極和石墨對電極通過橡膠塞固定。

一旦電極被安到電解池上后，您就可以倒入電解質(zhì)溶液了。這個演示中用氯化鈉（NaCl）溶液。整個電解池裝置放入法拉第籠（這個例子用Gamry VistaShield）以移除會使低電流測量變得困難的噪聲。

注意：對于所有的電化學(xué)實驗，所有的電極必須浸于電解質(zhì)。

對于EIS實驗，電化學(xué)工作站的四條導(dǎo)線是一直要用的，第五條導(dǎo)線被強烈推薦。工作導(dǎo)線（綠色，載流），工作傳感導(dǎo)線（藍色，電壓傳感），參比導(dǎo)線（白色，電壓傳感）和輔助導(dǎo)線（紅色，載流）一直連在儀器。如果用法拉第籠，例如VistaShield的話，浮地線（黑色）要連到籠上。輔助傳感線（橘色，電壓傳感）在實驗中是關(guān)閉的。它可以不連，或者連上但不發(fā)指令。導(dǎo)線的布局如圖3所示。

圖3 LPR實驗中輔助，參比，工作和工作傳感導(dǎo)線都要用

現(xiàn)在電極可以與電化學(xué)工作站的導(dǎo)線相連了。工作和工作傳感導(dǎo)線連接于裸露工作電極，在這個例子中是包覆鋁，參比導(dǎo)線與參比電極相連，輔助導(dǎo)線與對電極（石墨）相連，接地導(dǎo)線與VistaShield里的地線接柱相連。一個采用如此接線方式的電解池如圖4所示。

圖4 （左）顯示電解池纜線連接方式的測試用電解池（右）電解池放于法拉第籠之中以減小測試過程中的噪聲。電解池導(dǎo)線穿過法拉第籠。

現(xiàn)在電解池*連接好，可以開始實驗了。打開電化學(xué)工作站，保證它與電腦相連。

運行實驗

打開Framework開始實驗。打開“Experiment”菜單，點擊“EIS300 – Electrochemical Impedance”，然后選擇Potentiostatic EIS。跳出一個新的窗口，如圖5所示。

圖5 EIS實驗中實驗參數(shù)的輸入屏幕

您會用到的參數(shù)高度依賴于實驗設(shè)置，會受到材料類型，電解質(zhì)類型和電解質(zhì)濃度等因素的影響。簡單解釋一下這些參數(shù)：

初始頻率：這個參數(shù)定義了數(shù)據(jù)采集過程中第一個施加信號的頻率。頻率的單位是赫茲。通常建議您以高頻開始，掃描到低頻。

終頻率：這個參數(shù)定義了數(shù)據(jù)采集過程中后一個施加信號的頻率。頻率單位是赫茲。

每10倍頻率采點數(shù)：這個參數(shù)定義了每10倍頻率內(nèi)產(chǎn)生的測量數(shù)值。每一個數(shù)據(jù)點對應(yīng)于所施加交流信號的一個不同頻率。數(shù)據(jù)以對數(shù)形式排列，每個10倍頻率內(nèi)數(shù)據(jù)點的數(shù)值*等于每10倍頻率采點數(shù)。因此，頻率掃描常常在終頻率處也不停，除非掃描范圍包含了整數(shù)倍的10倍頻率，如5 kHz到0.05 Hz（5個10倍）。

您可以使用初始頻率，終頻率和每10倍頻率采點數(shù)參數(shù)來計算阻抗譜中數(shù)據(jù)點的總數(shù)。

假設(shè) 初始頻率 = 5000，終頻率 = 0.2，每10倍頻率采點數(shù) = 10：

掃描范圍 = log（初始頻率）- log（終頻率）= 3.69-（-0.69）=  4.39（個10倍頻率）

估算點數(shù) = 1.5 + 掃描范圍 × 每10倍頻率采點數(shù) = 1.5 + 4.39 × 10 = 45.4

采點數(shù) = 45 點

采點的估算值常常通過去掉小數(shù)點部分來將其轉(zhuǎn)換成整數(shù)。阻抗譜不能包含超過32000個數(shù)據(jù)點。這個限制不是一個大問題，因為大多數(shù)的阻抗譜含的點都少于100個。

交流電壓：交流電壓參數(shù)決定了施加到電解池上的交流信號振幅。單位是rms（均方根）毫伏。通過乘以2（2^1/2）（大約是2.83）把輸入值轉(zhuǎn)換成峰間值。

交流電壓參數(shù)的分辨率和它的范圍對不同的系統(tǒng)是不一樣的。他們依賴于頻率響應(yīng)分析儀（FRA）和電化學(xué)工作站。一般來說，您可以輸入1 mV到2.1 V間的值。

直流電壓：直流電壓參數(shù)定義了在數(shù)據(jù)采集過程中，施加到電解池上的常電位補償。交流電壓被合計成直流電壓。

估算的Z值：估算的Z參數(shù)是用戶在初始頻率處輸入的電解池阻抗估值。它是用來限制需要嘗試的次數(shù)的，同時系統(tǒng)會優(yōu)化電化學(xué)工作站硬件設(shè)置中的增益，電流量程，補償和過濾。在采第一個數(shù)據(jù)點之前，系統(tǒng)選擇對估算Z值是理想的電化學(xué)工作站設(shè)置。如果估值相對精確，第一次（或第二次）測量阻抗的嘗試會成功。如果估值不好，系統(tǒng)可能需要嘗試5次，同時它會優(yōu)化電化學(xué)工作站硬件設(shè)置。如果估算的Z在電解池阻抗的5倍范圍內(nèi)，通常是夠的。

優(yōu)化：優(yōu)化是電化學(xué)阻抗譜腳本中的一個設(shè)置參數(shù)。它控制了在特定頻率，一個阻抗數(shù)據(jù)點被測得前必須完成的循環(huán)的小值。它提供了三種選擇：快速，正常和低噪聲。當a）電解池的穩(wěn)定性較差且阻抗譜必須快速測量時或者b）系統(tǒng)的阻抗較低且定義良好時，快速檔是一個合適的選擇。當電解池的阻抗很高或者電化學(xué)系統(tǒng)嘈雜時，正常檔是恰當?shù)倪x擇。選擇低噪聲檔可以得到好的數(shù)據(jù)，它強制了獲得一個數(shù)據(jù)點之前高的小值。

在這個指南中，我們將使用默認參數(shù)，如圖5所示。在設(shè)置對話框點擊‘OK’以啟動實驗。它會先測量開路電壓，然后開始頻率掃描。在實驗過程中，活動窗口在李沙育曲線和波特曲線間切換。李沙育曲線如圖6所示，y軸是電流，x軸是電壓。

圖6 EIS測試中的活動窗口。電化學(xué)工作站正在施加交流電壓并讀取相應(yīng)的電流響應(yīng)。

實驗完成后，會在下面顯示對話框‘Experiment done, press “F2-Skip” to continue’ ， 點擊此按鈕，可以圖6中看到。

運行分析

EIS是一個應(yīng)用于很多不同電化學(xué)領(lǐng)域的技術(shù)，包括腐蝕，電池與能源，和物理電化學(xué)。因為這個原因，就沒有一個所謂“普適”的分析方法。這個章節(jié)將展示如何用模型擬合數(shù)據(jù)。我們有一個完整的技術(shù)指南對Echem Analyst的工具和特征做了詳細的解釋。

一旦實驗跑完了，打開Framework中的‘Analysis’菜單，選擇剛才跑的文件的名字。在這個例子中，它被取名為‘EISPOT3 60cm cable.DTA’。選擇這個文件將打開Echem Analyst程序。數(shù)據(jù)顯示在兩個選項卡上。當您點擊‘Bode’選項卡時，EIS數(shù)據(jù)將以重疊的Bode阻抗值和Bode相位角位移曲線的形式顯示。這種表示法中，阻抗值對應(yīng)于左邊的y軸，相位角是右邊的y軸。當您點選‘Nyquist’選項卡時，EIS數(shù)據(jù)將以一個x軸為Zreal而y軸為-Zimag的復(fù)平面曲線的形式顯示。圖7顯示了Bode曲線以及可以切換Bode和Nyquist的選項卡。

用模型擬合數(shù)據(jù)，按以下步驟：

1. 點選‘Impedance’菜單，選擇‘Fit A Model（Simplex Method）’。模型選擇器窗口將出現(xiàn)

2. 在這個指南中，‘reap2cpe’模型將被使用。注意：使用的模型是高度依賴于要研究的電化學(xué)系統(tǒng)的。建議您對模型先有一個基本的了解，并且了解如何創(chuàng)建定制模型。

3. 在選擇好一個合適模型后，阻抗擬合窗口會出現(xiàn)。它允許輸入并鎖定某些已知值（例如溶液電阻）。如果沒有參數(shù)已知，好將所有參數(shù)都放開，并使用‘AutoFit’來獲得參數(shù)。‘Calculate’嘗試使用為每一個成分輸入的初始參數(shù)值來做擬合。AutoFit通常會在*嘗試時得到合適擬合，而計算需要跑多次。如圖8所示。

4. 一旦‘Auto Fit’被點選了，擬合曲線將在數(shù)據(jù)上顯示。擬合結(jié)果應(yīng)該像真實數(shù)據(jù)。模型元件的數(shù)值和擬合優(yōu)良度可以在以剛用模型為名的新選項卡中找到。在這個例子中，新選項卡被命名為‘REAP2CPE’。如圖9所示。

圖7 顯示在Echem Analyst上的EIS阻抗數(shù)據(jù)。該圖顯示了一條Bode曲線。‘Data Display Options’顯示了允許在Bode和Nyquist曲線間切換的選項卡。

圖8 阻抗擬合窗口，顯示了模型參數(shù)。解鎖參數(shù)并選擇‘AutoFit’

圖9 紅線和藍線是模型對數(shù)據(jù)的擬合結(jié)果。選擇被圈的選項卡可以看到擬合優(yōu)良度和模型參數(shù)

該指南到此結(jié)束，您已經(jīng)完成運行并分析了您的第一個阻抗實驗！一旦知道了如何運行基本的EIS實驗后，就可以進一步探索更高級的EIS應(yīng)用如涂層，電池，超級電容器和傳輸線等。所有EIS相關(guān)應(yīng)用報告的完整列表可以在這里找到。

如果遇到困難，請查看檢修預(yù)演或常見技術(shù)支持問題。如果您不能在這些資源中找到任何解決方案，請聯(lián)系我們的技術(shù)支持工程師，他們會進一步幫助您。